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摩尔定律

专题文章

阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小

本文介绍了阿斯麦新一代极紫外光刻机的构造与原理，说明其通过更短波长与高数值孔径延续芯片元件微型化，并分析该技术如何支撑摩尔定律在未来十年持续有效。

专题 2021-09-02 2021-09-02
避免瓶颈，移动平台拒绝陷入“挤牙膏”怪圈

文章分析了 ARM 提出以每瓦性能取代摩尔定律的背景，指出移动芯片晶体管数虽随制程提升，但 CPU/GPU 感知增强有限，AI 算力成为体验升级核心，并探讨功耗与成本对消费者的实际影响。

专题 2021-07-23 2021-07-23
摩尔定律已死，系统公司被迫自研：芯片行业需要从头变革

文章梳理了苹果、谷歌等系统公司因摩尔定律放缓而自研芯片的趋势，指出传统EDA 1.X面临六大挑战，并介绍EDA 2.0朝向开放、智能、服务化革新的方向及其对芯片行业主导权的潜在改变。

专题 2021-06-18 2021-06-18
吴汉明院士世界半导体大会演讲：详解后摩尔时代，芯片制造三大挑战

本文报道2021世界半导体大会上吴汉明院士的演讲，梳理后摩尔时代芯片制造在精密图形、新材料与良率上的挑战，以及我国集成电路产业链短板与全球化受阻的机遇。

专题 2021-06-09 2021-06-09
制程与良率，谁才是芯片厂商的竞赛底牌

文章探讨芯片良率与先进制程研发的关系，指出提升良率可视为摩尔定律的延伸，并分析其对成本的影响及产业链协作难题。

专题 2021-06-09 2021-06-09

摩尔定律

阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小

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