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光刻机

专题文章

阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小

本文介绍了阿斯麦新一代极紫外光刻机的构造与原理，说明其通过更短波长与高数值孔径延续芯片元件微型化，并分析该技术如何支撑摩尔定律在未来十年持续有效。

专题 2021-09-02 2021-09-02
CMOS 和电源 IC 需求增长，带动后端光刻设备发展

本文报道了外媒引用的行业报告，指出受CMOS传感器与电源管理IC需求驱动，超越摩尔定律应用的光刻设备市场至2026年将以年均9%增长，并介绍了主要厂商格局。

科技公司与资本 2021-08-08 2021-08-08
光刻机巨头阿斯麦 ASML 公布 2021 年 Q2 业绩：净利润 10 亿欧元

本文报道了阿斯麦2021年第二季度财报，其净利润低于预期但上调全年营收目标，并宣布最高90亿欧元回购计划。

科技公司与资本 2021-07-21 2021-07-21
布局光刻机核心器件，华为哈勃投资入股科益虹源

本文报道华为旗下哈勃投资入股国产准分子激光厂商科益虹源，分析认为这是华为加码布局自主光刻机研发以应对制裁的举措。

科技公司与资本 2021-06-05 2021-06-05
ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜，提高光刻机效率

ASML 今年将量产新型 EUV 防护膜，透光率提升至 90.6% 并耐受 400W 功率，有望解决晶圆厂因防尘膜透光率低而放弃使用的生产效率难题。

硬件与数码 2021-05-15 2021-05-15
为何缺芯窟窿难补：工艺难、设备贵，市场竞争太残酷

文章解析全球芯片短缺背景下芯片制造的高难度与复杂性，介绍从硅片涂胶到封装测试的七步流程、无尘环境要求及头部厂商的市场垄断格局。

专题 2021-05-08 2021-05-08

光刻机

阿斯麦新一代 EUV 光刻机开始制造：造价 1.5 亿美元，公共汽车大小

CMOS 和电源 IC 需求增长，带动后端光刻设备发展

光刻机巨头阿斯麦 ASML 公布 2021 年 Q2 业绩：净利润 10 亿欧元

布局光刻机核心器件，华为哈勃投资入股科益虹源

ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜，提高光刻机效率

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